FFU適用于半導(dǎo)體、電子、平板顯示器和磁盤驅(qū)動器的廠家及光學(xué)、生物工業(yè)及其它對空氣中污染有嚴格控制要求的地方。以獨特的優(yōu)勢合理的價格迅速占領(lǐng)市場。 高度低，系統(tǒng)設(shè)計時可節(jié)省氣室空間。輕量化結(jié)構(gòu)設(shè)計，可符合各廠家的 Grid 系統(tǒng)安裝，更可依 Grid 系統(tǒng)，變更 FFU 結(jié)構(gòu)尺寸設(shè)計。內(nèi)部裝置擴散板．風(fēng)壓擴散均勻，出風(fēng)面風(fēng)速平均穩(wěn)定。金屬結(jié)構(gòu)順風(fēng)道內(nèi)膽，永不老化．杜絕二次污染產(chǎn)生，表面光滑，風(fēng)阻低．隔音效果優(yōu)良。特殊入風(fēng)口，風(fēng)道設(shè)計，降低壓損與噪音的產(chǎn)生。馬達效率高，系統(tǒng)消耗電流低，節(jié)省能源成本。單相馬達，提供三段式調(diào)速，可依實際狀況調(diào)高或降低風(fēng)速與風(fēng)量。
無塵車間的溫濕度主要是根據(jù)工藝要求來確定，但在滿足工藝要求的條件下，應(yīng)考慮到人的舒適度感。隨著空氣潔凈度要求的提高，出現(xiàn)了工藝對溫濕度的要求也越來越嚴的趨勢。具體工藝對溫度的要求以后還要列舉，但作為總的原則看，由于加工精度越來越精細，所以對溫度波動范圍的要求越來越小。
例如在大規(guī)模集成電路生產(chǎn)的光刻曝光工藝中，作為掩膜板材料的玻璃與硅片的熱膨脹系數(shù)的差要求越來越小。直徑100 um的硅片，溫度上升1度，就引起了0.24um線性膨脹，所以必須有±0.1度的恒溫，同時要求濕度值一般較低，因為人出汗以后，對產(chǎn)品將有污染，特別是怕鈉的半導(dǎo)體車間，這種車間溫度不宜超過25度，濕度過高產(chǎn)生的問題更多。相對濕度超過55%時，冷卻水管壁上會結(jié)露，如果發(fā)生在精密裝置或電路中，就會引起各種事故。相對濕度在50%時易生銹。
此外，濕度太高時將通過空氣中的水分子把硅片表面粘著的灰塵化學(xué)吸附在表面難以清除。相對濕度越高,粘附的越難去掉，但當相對濕度低于30%時，又由于靜電力的作用使粒子也容易吸附于表面，同時大量半導(dǎo)體器件容易發(fā)生擊穿。對于硅片生產(chǎn)較佳濕度范圍為35—45%。
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